随着vivo的自己爆料，计划于9月9日发布的vivoX70系列的诸多影像技术逐渐揭开面纱，同时一些熟悉又陌生的光学术语也浮现在众人面前。

下面就一一深度解析vivoX70系列所用到的光学术语。这些解析，可能大家零散的有见过一些对应的技术介绍，但想必很少人能在一篇文章中看到。

玻璃镜片目前有两种生产方式，一种是单模压的GMO（GlassMoldingOptics），一种单次高精密模压最多100多穴的诚瑞光学（瑞声科技控股）的WLG（WaferLevelGlass）。

单模压的不同模次镜片精度较难保持一致，生产效率也较低，也难怪讲制作工艺难度明显增大，整体生产良率较低，每100片中才能挑选60片良品，因而成本更高。而WLG生产效率远超GMO，每模每穴的精度在高精度模具的加持下也有更优的一致性，因此从这些看出WLG更有优势。

单模GMO

WLG

SWC镀膜：subwavelengthstructurecoating亚波长结构镀膜，这个镀膜技术之前常见于佳能的单反相机镜头上。

通过在镜片表面蒸镀小于可见光波长的纳米级楔形结构，控制入射光线折射率，抑制光线反射的镀膜，SWC亚波长结构镀膜将反射率抑制到约0.05%，提高了透光率。进而可大幅减少以往镀膜难以消除的眩光与鬼影。

未镀膜的光透过率损失近10%

SWC亚波长结构镀膜中接近空气的A部分中楔形构造的密度较低，随着与玻璃镜片的距离逐渐缩短，B、C、D部分楔形构造所占比例逐渐变大。构造密度的变化使光线折射率逐级变化，光线如同沿着楔形构造从顶点至底部的方向逐级被吸收一般向前行进，从而抑制光线反射。

ALD镀膜：AtomicLayerDeposition原子层沉积技术，是一种基于有序、表面自饱和反应的化学气相薄膜沉积技术。可真正地在纳米尺度上精确控制薄膜厚度。

传统的溶液化学方法以及溅射或蒸镀等物理方法（PVD）由于缺乏表面控制性或存在溅射阴影区，不适于在三维复杂结构衬底表面进行沉积制膜。化学气相沉积（CVD）难以满足薄膜均匀性和薄厚精确控制的要求。原子层沉积技术（ALD）基于表面自限制、自饱和吸附反应，具有表面控制性，所制备薄膜具有优异的三维共形性、大面积的均匀性等特点，适应于复杂高深宽比衬底表面沉积制膜，同时还能保证精确的亚单层膜厚控制。

这个主要是应用于手机镜头镜片上的镀膜，能够大幅降低镜片反射率，实现更高的透过率。进而改善鬼影技术，提高拍照性能。

如果苹果用了这些提升透过率的技术，想必令人诟病的鬼影（下面红色圈起处）就不会那么明显了。

AOA工艺：国内光学厂商舜宇的模组生产工艺。

AOA动态光学校准工艺，把镜头分成上下两个群组，通过动态调整改变镜片群组，以解决制造误差产生的清晰度降低问题。

色素旋涂工艺：解决色素与蓝玻璃的附着力问题，涂层厚度薄至2um，利用色素进行红光波段的吸收，改善蓝玻璃滤光片和图像传感器之间反射造成的花瓣鬼影。

蔡司T*镀膜：T*意思是“TransmissionLayer”，也就是通光层的意思

T*镀膜的镜头通常都是镀6层膜，必要时也使用7层或者8层镀膜。多层镀膜可以减少夜晚城市灯光在镜头成像中产生的鬼影，提高成像质量。

左边搭载了T*镀膜的镜头对比度和抗眩光明显好于去除了T*镀膜的镜头

专业影像芯片V1：其实质就是ISP芯片，ImageSignalProcessing图像信号处理器

主要用来处理前端图像传感器输出信号的芯片，作为图像处理的核心器件，ISP对于手机相机最终的成像风格、质量有着至关重要的决定性作用。

之前这块有专门的芯片设计公司如来自于台湾的Altek等来设计生产，随着手机平台集成的ISP性能的提升，独立ISP逐渐销声匿迹。

不过随着手机图像传感器的规格升级，手机平台的ISP满足不了终端客户差异化的需求，手机厂商开始自己设计符合自己要求的独立ISP，如小米的澎湃C1,vivo的V1。

这次vivo发布的V1主要服务于整个手机影像系统：

1、提升手机算力，让手机可以在低功耗下高速处理大量运算数据；

2、提升在夜景环境下的拍照和录像表现；